Silicate d'hafnium(IV)
Dans cet article, nous allons explorer le sujet de Silicate d'hafnium(IV) de manière approfondie et détaillée. _Var1 est un sujet d'intérêt et de débat depuis longtemps, et dans cet article, nous allons examiner ses origines, son impact sur la société et sa pertinence dans le monde d'aujourd'hui. Depuis ses débuts jusqu'à son évolution au fil des années, Silicate d'hafnium(IV) a été un élément fondamental dans de multiples aspects de la vie quotidienne. Nous analyserons différents points de vue, étudierons les données pertinentes et présenterons les opinions d’experts dans le domaine. Avec une approche objective et critique, cet article cherche à faire la lumière sur Silicate d'hafnium(IV) et son influence sur le monde moderne.
| Silicate d'hafnium(IV) | |
| Identification | |
|---|---|
| Nom UICPA | silicate d'hafnium(IV) |
| PubChem | 17979268 |
| SMILES | |
| InChI | |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | HfSiO4 |
| Masse molaire[1] | 270,57 ± 0,02 g/mol Hf 65,97 %, O 23,65 %, Si 10,38 %, |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
modifier  |
|
Le silicate d'hafnium(IV) est un composé chimique de formule brute HfSiO4. Il s'agit formellement du sel d'hafnium et d'acide silicique.
Des couches minces de silicate d'hafnium(IV) et de silicate de zirconium(IV) obtenues par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le plus souvent aux organométalliques (MOCVD), peuvent être employées comme diélectriques high-κ à la place du dioxyde de silicium SiO2 dans l'industrie des semiconducteurs[2].
Notes et références
- ↑ Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- ↑ (en) I.Z. Mitrovic, O. Buiu, S. Hall, C. Bungey, T. Wagner, W. Davey et Y. Lu, « Electrical and structural properties of hafnium silicate thin films », Microelectronics Reliability, vol. 47, nos 4-5, , p. 645-648 (lire en ligne) DOI 10.1016/j.microrel.2007.01.065
